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離子束濺射沉積

北京埃德萬斯離子束技術研究所股份有限公司原名為北京埃德萬斯離子束技術研究所，成立于2001年，自主獨立設計了離子束刻蝕設備和雙離子束濺射沉積鍍膜設備，其自主設計的考夫曼離子源穩定性≤±3%，鍍膜均勻性≤±5%，工件臺采用水冷控溫系統，溫度可以控制在5℃~25℃，可低溫成膜。采用離子束濺射鍍膜設備加工的薄膜附著力很強、均勻性好、致密度高，可合成新功能復合型薄膜。