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反滲透設(shè)備采用無(wú)相變的反滲透技術(shù)將原水進(jìn)行過(guò)濾，進(jìn)而完成水質(zhì)凈化的目的。反滲透設(shè)備可以根據(jù)用戶(hù)的實(shí)際需求，適當(dāng)?shù)恼{(diào)整反滲透設(shè)備的出水量。反滲透設(shè)備更具經(jīng)濟(jì)性、運(yùn)行更穩(wěn)定的優(yōu)點(diǎn)，并且大大的延長(zhǎng)了離子交換

微電子工業(yè)、集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高，對(duì)水質(zhì)的要求也越高，這也對(duì)超純水處理工藝及產(chǎn)品的簡(jiǎn)易性、自動(dòng)化程度、生產(chǎn)的連續(xù)性、可持續(xù)性等提出了更加嚴(yán)格的要求&n

反滲透膜工作原理是將純水與含有溶質(zhì)的溶液用一種只能通過(guò)水的半透膜隔開(kāi)，此時(shí)，純水側(cè)的水就自發(fā)的透過(guò)半透膜，進(jìn)入溶液一側(cè)，溶液側(cè)的水面升高，這種現(xiàn)象就是滲透。當(dāng)液面升高至一定高度時(shí)，膜兩側(cè)壓力達(dá)到平衡，

化工行業(yè)中溶劑用水、化學(xué)分析、化工材料、產(chǎn)品清洗、物質(zhì)的分離、濃縮、提純，廢物回收等場(chǎng)合都需要用到超純水設(shè)備,用水水質(zhì)電導(dǎo)率從20uS/cm- 0.1uS/cm。  ★應(yīng)用場(chǎng)合 化

生活污水處理及回用技術(shù)（中水處理系統(tǒng)）中水設(shè)備是專(zhuān)為工業(yè)污水和生活污水回用而研制的一種新型生化凈水處理設(shè)備，其打破傳統(tǒng)的中水水處理設(shè)施所沿用的工藝，將國(guó)際上最 新膜技術(shù)工藝用于中水處理，從而構(gòu)成了當(dāng)今

微電子工業(yè)、集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高，對(duì)水質(zhì)的要求也越高，這也對(duì)超純水處理工藝及產(chǎn)品的簡(jiǎn)易性、自動(dòng)化程度、生產(chǎn)的連續(xù)性、可持續(xù)性等提出了更加嚴(yán)格的要求。&

反滲透設(shè)備應(yīng)用領(lǐng)域（ 1 ）電力工業(yè)：鍋爐補(bǔ)給水、冷卻水壩；（ 2 ）電子工業(yè)：半導(dǎo)體工業(yè)超純水、集成電路清洗用水、配方用水；（ 3 ）食品工業(yè)：配方用水、生產(chǎn)用水；（ 4 ）制藥行業(yè)：工藝用水、制劑

 電鍍涂裝行業(yè)中，為了增加鍍件表面光潔度、亮度、附著力，電鍍液的配制需要用電導(dǎo)率在10uS/cm-1uS/cm以下的純水，另外在鍍件漂洗時(shí)也需用電導(dǎo)率在5uS/cm以下純水來(lái)清洗.此外超濾和

新興的光電材料生產(chǎn)、加工、超聲波清洗；LCD液晶顯示屏、PDP等離子顯示屏、高品質(zhì)燈管顯像管、微電子工業(yè)、大規(guī)模、超大規(guī)模集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高，對(duì)水質(zhì)

服務(wù)理念1. 質(zhì)保期全套設(shè)備系統(tǒng)的免費(fèi)質(zhì)保期為12個(gè)月，終身保養(yǎng)服務(wù)，設(shè)備設(shè)計(jì)壽命為10年以上。2. 服務(wù)承諾2.1 技術(shù)服務(wù)我公司向項(xiàng)目單位派技術(shù)人員到現(xiàn)場(chǎng)參與開(kāi)箱驗(yàn)貨,并負(fù)責(zé)設(shè)備安裝、調(diào)試、啟動(dòng)。

 EDI設(shè)備/EDI超純水/EDI去離子水/EDI高純水設(shè)備的工作原理EDI電去離子膜堆同時(shí)進(jìn)行以下三個(gè)主要過(guò)程: 1)在純水室中， 陰、陽(yáng)混合離子交換樹(shù)脂上的OH－ 和H+離子對(duì)水中電解質(zhì)

反滲透膜工作原理純水與含有溶質(zhì)的溶液用一種只能通過(guò)水的半透膜隔開(kāi)，此時(shí)，純水側(cè)的水就自發(fā)的透過(guò)半透膜，進(jìn)入溶液一側(cè)，溶液側(cè)的水面升高，這種現(xiàn)象就是滲透。當(dāng)液面升高至一定高度時(shí)，膜兩側(cè)壓力達(dá)到平衡，溶液

新興的光電材料生產(chǎn)、加工、超聲波清洗；LCD液晶顯示屏、PDP等離子顯示屏、高品質(zhì)燈管顯像管、微電子工業(yè)、大規(guī)模、超大規(guī)模集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高，對(duì)水質(zhì)

 眾多食品及飲料行業(yè)實(shí)施食品衛(wèi)生安全許可證制度（QS認(rèn)證），規(guī)定所用工藝水及成品水均需要用凈化后的水，即預(yù)處理凈水或純凈水，電導(dǎo)率通常在10uS/cm以下，符合GB 17324-2003瓶（

凈化設(shè)備是以地面天然水體（江、湖、河水）為水源，采用成熟的水質(zhì)凈化工藝，即集加藥、混合、反應(yīng)、整流、混凝、過(guò)濾單元等操作步驟于一體的水質(zhì)凈化設(shè)備，該設(shè)備配以水泵、加藥裝置、裝置、調(diào)節(jié)閥及各式儀表等附件